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蔡司掃描電鏡EVO系列

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公司名稱 昆山吉安麥機(jī)電設(shè)備有限公司
品牌
型號
所在地 蘇州市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/6/14 13:42:27
訪問次數(shù) 111

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2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

行業(yè)的新伙伴蔡司EVO掃描電子顯微鏡的品質(zhì)值得信賴，可助工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析實(shí)驗(yàn)室一臂之力在工業(yè)質(zhì)量、失效分析或研究領(lǐng)域，由于掃描電子顯微鏡可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學(xué)信息，所以它是金相學(xué)和失效分析應(yīng)用的理想之選

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

行業(yè)的新伙伴——
蔡司 EVO 掃描電子顯微鏡的品質(zhì)值得信賴，可
助工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析實(shí)驗(yàn)室一臂之力
在工業(yè)質(zhì)量、失效分析或研究領(lǐng)域，由于掃描電子顯微鏡可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學(xué)信息，所以它是金相學(xué)和失效分析應(yīng)用的理想之選。
專為日常檢測和分析應(yīng)用而設(shè)計(jì)，蔡司EVO 擁有的操作設(shè)計(jì)理念，無論是經(jīng)驗(yàn)豐富的顯微技術(shù)人員還是不具備掃描顯微鏡專業(yè)知識的工程師，均可輕松上手。它能夠提供出色的高質(zhì)量圖像，特別適合于后續(xù)檢測中無法涂覆導(dǎo)電層的非導(dǎo)電零部件。
EVO 的優(yōu)勢在于能夠無縫集成至多模式質(zhì)量保證或失效分析工作流程中，半自動化重定位感興趣區(qū)域和數(shù)據(jù)完整性解決方案使其可以實(shí)現(xiàn)跨系統(tǒng)、跨實(shí)驗(yàn)室甚至跨區(qū)域的應(yīng)用。
此外，EVO 還是清潔度分析的工業(yè)級解決方案平臺。憑借大量可選的樣品室、真空系統(tǒng)、電子槍和分析選件，EVO 可以滿足您的性價(jià)比需求。

邁入檢測應(yīng)用新高度——當(dāng)達(dá)到光學(xué)顯微鏡分辨率或襯度極，EVO能助您尋求更多答案

高分辨率表面形貌

二次電子（SE）成像 – 使用高達(dá)數(shù)納米的分辨率，輕松應(yīng)對幾乎所有亞微米級應(yīng)用。光學(xué)顯微鏡可獲得表面襯度
（反射），而二次電子則可獲得樣品表面上的邊緣襯度，因此能夠提供更詳細(xì)的表面形貌信息，如金屬裂縫。

組分成像

背散射電子（BSE）成像可獲得與零部件或裝配件材質(zhì)密度成比例的襯度。通過獲取組分異質(zhì)性信息可以幫助您找出材料失效或質(zhì)量偏差的根本原因。

高空間分辨率元素分析

在能量色散譜儀（EDS）中，通過精準(zhǔn)聚焦的電子束與樣品之間相互作用產(chǎn)生的 X 射線能夠獲得表面元素組分信息。運(yùn)用掃描電子束在感興趣區(qū)域上得到化學(xué)元素分布。EVO 與 EDS 組合為質(zhì)量檢驗(yàn)或材料失效分析應(yīng)用中的元素化學(xué)信息成像提供出色解決方案。

高性價(jià)比——契合您的性價(jià)比需求

樣品室規(guī)格

無論是小型組件，還是大型零部件或裝配件，如傳動系統(tǒng)或電氣組件，均可從三種規(guī)格的真空樣品室（EVO 10、 15 和 25）中選擇成像和分析需求的一款。

電子槍

選擇標(biāo)準(zhǔn)熱電子槍（發(fā)針型鎢絲），或選用六硼化鑭
（LaB6）電子槍獲得高達(dá)10倍的電子束亮度。多年來，蔡司不斷致力于掃描電子顯微鏡中 LaB6 電子槍的改進(jìn)，以提高易用性和圖像質(zhì)量，尤其是在可變壓力模式下。

與樣品匹配的真空環(huán)境
為金屬和其他導(dǎo)電零部件選擇標(biāo)準(zhǔn)高真空配置，或選配可變壓力（VP）模式進(jìn)行非導(dǎo)電零部件的成像與分析，無需涂覆或制備，從而不會干擾多模式質(zhì)量保證或失效分析工作流程。在可變壓力模式下，也可選擇品質(zhì)的蔡司C2D 二次電子探測器對非導(dǎo)電零部件進(jìn)行表面形貌成像。

技術(shù)參數(shù)

	EVO 10	EVO 15	EVO 25
分辨率	2 nm, 3nm @ 30 kV SE with LaB6, W
	3.4 nm @ 30 kV SE VP mode with W
	6 nm, 8 nm @ 3 kV SW with LaB6 or W
	9 nm, 20 nm @ 1 kV SE with LaB6, W
加速電壓	0.2 to 30 kV
探針電流	0.5 pA to 5 mA
放大倍數(shù)	< 7 – 1,000,000x	< 5 – 1,000,000x	< 5 – 1,000,000x
視野大小	6 mm at Analytical Working Distance (AWD)
能譜分析工作距離	8.5 mm AWD and 35 degree take-off angle
Optibeam 模式	Resolution, Depth, Analysis, Field, Fisheye
可變真空氣壓范圍	10 – 400 Pa (VP option), 10 – 3000 Pa (EP option)
可以配置的探測器	ETSE / VPSE-G4 / C2D / C2DX HDBSD / YAG-BSD STEM / CL EDS / WDS / EBSD
樣品倉尺寸	310 mm (Ø) x 220 mm (h)	365 mm (Ø) x 275 mm (h)	420 mm (Ø) x 330 mm (h)
5軸電動樣品臺	X = 80 mm, Y = 100 mm, Z = 35 mm, T = - 10° to 90º, R = 360º (continuous)	X = 125 mm, Y = 125 mm, Z = 50 mm, T = -10° to 90º, R = 360º (continuous)	X = 130 mm, Y = 130 mm, Z = 50 mm, T = -10° to 90º, R = 360º (continuous)
樣品高度	100 mm	145 mm	210 mm
圖像尺寸	Up to 32k x 24k pixels