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- 公司名稱 蘇州芯艾藍(lán)光電材料有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 蘇州市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2024/7/4 15:10:28
- 訪問次數(shù) 138
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產(chǎn)品簡介:在同步輻射實驗室內(nèi)實現(xiàn)能量可調(diào)的超高分辨率三維成像蔡司 Xradia Synchrotron 解決方案將納米級 X 射線成像技術(shù)引入到同步輻射實驗室中,讓耗時且耗費財力的自主研發(fā)成為過去。專屬的 X 射線光學(xué)器件和成熟的三維 X 射線顯微技術(shù),使超亮的可調(diào) X 射線光束在現(xiàn)代化的同步輻射實驗室內(nèi)得以綜合應(yīng)用。借助優(yōu)于30 nm 的分辨率在多種襯度模式下完成快速的非破壞性三維成像。Xradia Synchrotron 系列包含成像和掃描顯微鏡,覆蓋從軟 X 射線到硬 X 射線的寬波長范圍。
特點:
斷層成像、熒光、冷凍技術(shù)
1.Xradia 800 Synchrotron:硬 X 射線納米斷層成像技術(shù)
三維 X 射線斷層成像能夠提供內(nèi)部結(jié)構(gòu)的詳細(xì)體積數(shù)據(jù),而無需對感興趣的區(qū)域進(jìn)行切割或切片處理。工作能量范圍為 5-11 keV,可利用<30 nm 的分辨率對不同種類的樣品成像,包括電池和燃料電池的電極材料、催化劑及軟硬組織等。Xradia 800 Synchrotron 是技術(shù)的理想之選 ,如用于三維化學(xué)分布和原位成像的 XANES 光譜學(xué)-顯微成像技術(shù),能夠讓您在實際操作環(huán)境條件下研究材料特性。
2.Xradia 825 Synchrotron:軟 X 射線納米斷層成像技術(shù)
在軟 X 射線波長范圍內(nèi)完成三維斷層成像,包括能量從“水窗”波段到2.5 keV 的中能波段,非常適合于完整細(xì)胞和組織的結(jié)構(gòu)成像。低溫樣品處理可以實現(xiàn)對含水樣品進(jìn)行成像,在盡可能保持樣品接近自然狀態(tài)的情況下,更大限度地減少輻射損傷的影響。其他應(yīng)用還包括有機(jī)和無機(jī)材料的化學(xué)態(tài)分布及磁疇成像。
3.Xradia 835 Synchrotron:X 射線熒光顯微技術(shù)
硬 X 射線納米探針非常適合于借助超高靈敏度進(jìn)行痕量元素分布和定量分析的應(yīng)用。這類應(yīng)用可能包含金屬和功能性納米顆粒在健康與疾病領(lǐng)域中的效用、植物內(nèi)攝入的重金屬、太陽能電池及其它功能性材料中的污染和缺陷。Xradia 835 Synchrotron 是一套靈活且可擴(kuò)展的平臺,它將蔡司波帶片光學(xué)器件與 X 射線熒光、光譜和衍射等已有的分析技術(shù)相結(jié)合。低溫樣品處理能在需要高分辨率成像的生命科學(xué)應(yīng)用中更大限度地減少輻射損傷的影響。
優(yōu)勢:
利用蔡司成熟的同步輻射平臺,將更多的時間和精力投入到研究中,而非把財力和時間浪費在內(nèi)部自主開發(fā)上。
根據(jù)研究任務(wù)需求,選擇更適合的三維 X 射線顯微技術(shù)平臺。
Xradia 800 Synchrotron:硬 X 射線納米斷層成像技術(shù)
綜合運用<30 nm 的分辨率完成非破壞性三維斷層成像,在無需對感興趣的區(qū)域進(jìn)行切割或切片處理的情況下獲取樣品的詳細(xì)體積數(shù)據(jù)
體驗技術(shù)的靈活性并對大量樣品進(jìn)行原位成像,借助優(yōu)異的圖像品質(zhì)和高效性能來了解實際操作環(huán)境條件的影響
使用 XANES 光譜二維成像來表征電化學(xué)器件或催化劑中氧化狀態(tài)
Xradia 825 Synchrotron:軟 X 射線納米斷層成像技術(shù)
使用“水窗”波段對自然潮濕環(huán)境中的有機(jī)樣品進(jìn)行高襯度成像
對完整細(xì)胞和組織的結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像,使用低溫樣品處理較大限度地減少輻射損傷的影響
關(guān)聯(lián)光學(xué)熒光顯微技術(shù),用以對結(jié)構(gòu)和功能進(jìn)行組合關(guān)聯(lián)成像
Xradia 835 Synchrotron:X 射線熒光顯微技術(shù)
Xradia 835 Synchrotron 是一套靈活且可擴(kuò)展的平臺,它將蔡司專屬的光學(xué)器件與 X 射線熒光、譜學(xué)和衍射等分析技術(shù)相結(jié)合
借助超高靈敏度進(jìn)行痕量元素的二維分布和定量分析
在利用低溫樣品處理技術(shù)更大限度地減少生物樣品內(nèi)輻射損傷的同時以優(yōu)至 30 nm 的分辨率進(jìn)行成像
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