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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 深圳東儀精工設(shè)備有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 深圳市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/8/19 15:12:57
訪問次數(shù) 33

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特價(jià)說明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

SE-VE光譜橢偏儀本設(shè)備基于單旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實(shí)現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學(xué)常數(shù)的快速分析表征。

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SE-VE光譜橢偏儀

本設(shè)備基于單旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實(shí)現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學(xué)常數(shù)的快速分析表征。

1、 橢偏儀測頭規(guī)格：
1) 光譜范圍：400-800nm
2) 入射角：65°
3) 光斑大小：200μm
4) 調(diào)制技術(shù)：PC_RSA調(diào)制技術(shù)
5) 重復(fù)性測量精度：0.01nm（100nm 硅基SiO2樣件，30次重復(fù)測量）
6) 膜厚測量范圍：0.1nm—20μm
7) 單點(diǎn)測量時(shí)間：＜5s
8) 光源：高性能進(jìn)口鹵素?zé)艄庠矗u素?zé)魤勖?/font>2,000h）
9) 可視化樣品顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
2、 樣品臺(tái)規(guī)格：
1) 基板尺寸：支持樣件尺寸到Ф180mm
2) Z軸位移行程：0-10mm
3) 樣件臺(tái)俯仰角度：> ±2°

3、 測控與分析軟件
1) 光譜測量能力：PSI/DELTA橢偏光譜、N/C/S光譜、反射率光譜測量
2) 數(shù)據(jù)分析能力：具備單層、多層膜厚、光學(xué)常數(shù)（折射率、消光系數(shù)）分析能力
3) 支持常用光學(xué)常數(shù)模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等），并支持圖形化多振子混合模型擬合功能
4) 支持多組分薄膜與體材料光學(xué)常數(shù)、組分比例分析功能；核心算法包含嚴(yán)格耦合波模型、等效介質(zhì)模型
5）支持用戶自定義，軟件不限制拷貝數(shù)量，支持windows10操作系統(tǒng)