Nicomp 380 在線粒徑檢測儀
Nicomp 380 在線粒徑檢測儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒的粒度分布，主要用于檢測納米級別的膠體體系，其粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。Nicomp 380系列儀器復(fù)合采用了 Gaussian 單峰算法和的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。
基線調(diào)整自動補償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所*的兩個主要特點，通過多年在不同領(lǐng)域的實踐證明，Nicomp380系列儀器可以有效區(qū)分開相鄰峰，也可以識別并剔除少數(shù)較大粒子造成的雜峰。
動態(tài)光散射&模塊化設(shè)計
標準配置的Nicomp 380 納米粒徑分析儀裝載了 15 mW的半導(dǎo)體激光光源，PMT探測器，以及固定90度檢測角。進樣方式為嵌入式樣品池。
Nicomp 380納米粒徑分析儀是*在應(yīng)用動態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的先進粒度儀。隨著模塊的升級和增加，Nicomp 380的功能體系越來越強大，可以用于各種復(fù)雜體系的檢測分析。
自動稀釋模塊
帶有的自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差，且不需要人工不斷試錯來獲得合適的測試濃度，這大大縮短了測試者寶貴時間，且無需培訓(xùn)，測試結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差率<1%。
380/HPLD大功率激光器
美國PSS粒度儀公司在開發(fā)儀器的過程中，考慮到在各種實驗測試條件中不同的需求，對不用使用條件和環(huán)境配置了不同功率的激光發(fā)生器。大功率的激光器可以對極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號，使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣，大功率激光器在測試大粒子的時候同樣也很有幫助，比如在檢測右旋糖酐大分子時，折射率的特性會引起光散射強度不足。
因為大功率激光器的特性，會彌補散射光強的不足和衰減，測試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質(zhì)以及其他大分子不再是一個苛刻的難題。即使沒有色譜分離，Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。
雪崩二極管 (APD) 探測器
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以裝配各種大功率的激光發(fā)生器和雪崩二極管檢測器(相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有7倍放大增益效果)。
APD通常被用于散射發(fā)生不明顯的體系里來增加信噪比和敏感度，如蛋白質(zhì)、不溶性膠束、濃度極低的體系以及大分子基團，他們的顆粒的一般濃度為1mg/mL甚至更低，這些顆粒是由對光的散射不敏感的原子組成。APD外置了一個大功率激光發(fā)生器模塊，在非常短的時間內(nèi)就能檢測分析納米級顆粒的分布情況。
380/MA多角度檢測器
粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會朝著各個方向散射。多角度檢測角器通過調(diào)節(jié)檢測角度來增加粒子對光的敏感性來測試某些特殊級別粒子。Nicomp 380可以配備范圍在10°-175°，步長0.9°的多角度測角器，從而使得單一90°檢測角測試不了的樣品，通過調(diào)節(jié)角度進行檢測，改善對大粒子多分散系粒徑分析的精確度。
檢測范圍
0.3 nm -10 μm
無需校準
應(yīng)用領(lǐng)域廣
檢測速度快
靈敏度高
對團聚粒子靈敏度高(D6)
功能全面
使用簡捷
復(fù)合型算法
高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法結(jié)合
模塊化設(shè)計
可同機搭載ZETA電位檢測模塊，還可增加自動稀釋和自動滴定等輔助測試模塊
動態(tài)光散射原理
Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強度，散射強度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴散現(xiàn)象(或布朗運動)導(dǎo)致光強不斷波動。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數(shù)(Particle size distribution, PSD)。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個指數(shù)衰減函數(shù)，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴散率。粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯(Stokes-Einstein)方程式計算得到。
大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)，即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會比較大，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成，每一個指數(shù)衰減函數(shù)都會因指數(shù)衰減時間不同而存在差異，此時計算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)，從而得出較接近真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，利用一組*的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司*的粒徑分布表達方法—Nicomp分布(Nicomp Distribution)。
有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調(diào)整參數(shù)的功能，以此來補償測試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式”或者“囊泡重量模式”來分析帶有小囊泡的膠體體系，比如脂質(zhì)體。
Nicomp分析方法是一種的高分辨率的去卷積算法，它*在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計粒徑分布。在歷*已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠精確分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系(比如 2：1比例)，甚至是三峰樣品分散體系。在科學(xué)研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。
