NanoCalc光學(xué)薄膜厚度測量系統(tǒng)是一種用戶可配置的膜厚測量系統(tǒng)，它利用分光光譜反射儀來精確地測量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中。

  NanoCalc是一種用戶可配置的膜厚測量系統(tǒng)，它利用分光光譜反射儀來精確地測量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中。

  利用白光干涉測量法的原理，NanoCalc用一個(gè)寬波段的光源來測得不同波長的反射數(shù)據(jù)，由于反射率n和k隨膜厚的不同而變化，NanoCalc根據(jù)這一特性來進(jìn)行曲線擬合從而求得膜厚。在NanoCalc中，不同類型材料的相應(yīng)參數(shù)通過不同的模型來描述，從而保證了不同類型材料膜厚測量的準(zhǔn)確性。NanoCalc的膜厚測量范圍為1nm到1mm，只要待測材料有一定的透射或反射就能通過NanoCalc進(jìn)行膜厚測量，這些材料包括氧化物、氮化物和保護(hù)膜層等，通常這些覆膜的基地材料包括硅晶片或玻璃燈。

  1nm以上的金屬膜厚也能測量，只要不是*不透光的。對(duì)于已知的系統(tǒng)，3層以內(nèi)的多層膜厚測量可以在不到一秒鐘時(shí)間內(nèi)完成。

  通常擬合曲線和實(shí)際曲線由于干涉會(huì)引起一些差異，NanoCalc的算法充分考慮到了這一點(diǎn)，從而可以在比較粗糙的表面進(jìn)行測量。

  光學(xué)薄膜厚度測量系統(tǒng)產(chǎn)品主要優(yōu)勢和特點(diǎn)

• UV/VIS/NIR高分辨率的配置
• 測量準(zhǔn)確度在1nm，精度在0.1nm
• 可測量zui大10層薄膜
• 膜厚測量zui小可至1nm，zui大可至1mm
• 可測量zui小1nm厚的透明金屬層
• 提供試驗(yàn)臺(tái)及附件用于復(fù)雜外形材料的測量
• 對(duì)表面缺陷和光滑度不敏感
• 龐大的材質(zhì)數(shù)據(jù)庫，保證各種材料的精確測量

光學(xué)薄膜厚度測量系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)薄膜厚度測量系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)