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QT003 WGL光電輪廓儀

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本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測(cè)量方法,測(cè)量時(shí)不損傷工件表面,能快速測(cè)得各種工件表面微觀形貌的立體圖形,并分析計(jì)算出測(cè)量結(jié)果。適用于測(cè)量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度;標(biāo)尺、度盤的刻線深度;光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌;磁(光)盤、磁頭表面結(jié)構(gòu)測(cè)量;硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測(cè)量等等。

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  特點(diǎn):


  本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測(cè)量方法,測(cè)量時(shí)不損傷工件表面,能快速測(cè)得各種工件表面微觀形貌的立體圖形,并分析計(jì)算出測(cè)量結(jié)果。適用于測(cè)量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度;標(biāo)尺、度盤的刻線深度;光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌;磁(光)盤、磁頭表面結(jié)構(gòu)測(cè)量;硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測(cè)量等等。


  由于儀器測(cè)量精度高,具有非接觸和三維測(cè)量的特點(diǎn),并采用計(jì)算機(jī)控制和快速分析、計(jì)算測(cè)量結(jié)果,本儀器適用于各級(jí)測(cè)試、計(jì)量研究單位工礦企業(yè)計(jì)量室,精密加工車間,也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等。


  主要技術(shù)參數(shù)


  表面微觀不平深度測(cè)量范圍


  在連續(xù)表面上,相鄰二象素之間沒有大于1 / 4 波長(zhǎng)的高度突變時(shí):1000 一1nm


  相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長(zhǎng)的高度突變時(shí):130 一1nm


  測(cè)量的重復(fù)性:δRa ≤0.5nm


  物鏡倍率:40X


  數(shù)值孔徑:Φ 65


  工作距離:0.5mm


  儀器視場(chǎng)  目視: Φ0.25mm


  攝象: 0.13×0.13mm


  儀器放大倍數(shù) 目視: 500×


  攝象(計(jì)算機(jī)屏幕觀察)一2500×


  接收器測(cè)量列陣:1000X1000


  象素尺寸:5.2×5.2μm


  測(cè)量時(shí)間采樣(掃描)時(shí)間:1S


  儀器標(biāo)準(zhǔn)鏡     反射率(高): ~50 %


  反射率(低): ~4 %


  照明光源:白熾燈6V 5W


  綠色干涉濾光片波長(zhǎng):λ≒530nm 


  半寬度λ≒10nm 


  主顯微鏡升程:110 mm


  工作臺(tái)升程:5 mm


  X 、丫方向移動(dòng)范圍: ~10 mm


  工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)范圍:360°


  工作臺(tái)頃斜范圍:±6°


  計(jì)算機(jī)系統(tǒng):P4 , 2 .8G 以上,內(nèi)存1G以上17寸純平顯示器


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