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新一代高性能OES光譜儀-全面金屬分析控制

關(guān)鍵詞:金屬 金屬加工廠中的來料

概述:新型OE750直讀光譜儀具有超高的分析性能水平。它涵蓋金屬元素的所有光譜,并具備一些低檢出限。因此,此款分析儀具備價(jià)格高昂的同類儀器所能提供的功能水平,可*為許多金屬加工企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)分析。

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更新時(shí)間2020年07月21日

上傳企業(yè)日立分析儀器(上海)有限公司

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中國(guó),2019年12月5日:日立分析儀器(Hitachi High-Tech Analytical Science)是一家日立高新技術(shù)公司(TSE:8036)旗下的一家全資子公司,主要從事分析和測(cè)量?jī)x器的制造和銷售,其已推出一款開創(chuàng)性的OE750型新型直讀光譜儀,用于驗(yàn)證金屬加工廠中的來料規(guī)格分析。


由于供應(yīng)鏈變得復(fù)雜,*質(zhì)量策略和要求更高的規(guī)格和標(biāo)準(zhǔn)層出不窮,因此金屬加工業(yè)面臨著越來越大的壓力,他們需要在投入生產(chǎn)前檢查來料是否違反牌號(hào)信息,檢查雜質(zhì)和痕量元素的含量。為了滿足這些新的QAQC高要求,新型OE750直讀光譜儀具有超高的分析性能水平。它涵蓋金屬元素的所有光譜,并具備一些低檢出限。因此,此款分析儀具備價(jià)格高昂的同類儀器所能提供的功能水平,可*為許多金屬加工企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)分析。

 

OE750實(shí)現(xiàn)高分辨率和寬動(dòng)態(tài)范圍要?dú)w功于采用了先進(jìn)CMOS探測(cè)器技術(shù)的革命性新光學(xué)理念。因此,這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長(zhǎng)范圍;這意味著該分析儀能測(cè)量金屬中ppm級(jí)別的所有元素。這對(duì)于滿足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要,該分析儀可滿足相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)格的要求,例如ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗(yàn)方法和ASTM E1086標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于用火花原子發(fā)射光譜法分析不銹鋼的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法。

 

OE750的新光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是啟動(dòng)時(shí)間短。由于光學(xué)系統(tǒng)體積小,不到一小時(shí)的時(shí)間便可啟用儀器??稍谛枰獧z查100%來料的情況下,助力實(shí)現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

 

除了新的光學(xué)設(shè)計(jì)之外,OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個(gè)新的密封火花臺(tái),具有優(yōu)化層流設(shè)計(jì),可降低氬氣消耗,降低污染的可能性,并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%,并避免油氣污染,從而增加可靠性和儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。這使得OE750具有高可靠性和低運(yùn)行成本。

 

除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外,新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如,它包括日立牌號(hào)數(shù)據(jù)庫(kù),該數(shù)據(jù)庫(kù)包含來自69個(gè)國(guó)家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標(biāo)準(zhǔn),減少了人工查閱牌號(hào)目錄的時(shí)間和潛在錯(cuò)誤。作為選擇方案,它配有SPC/LIMS包,能夠輕松有效監(jiān)控該儀器所涉過程以及由其控制的過程。這是滿足IATF 16949等標(biāo)準(zhǔn)要求的理想工具。

 

日立OES產(chǎn)品業(yè)務(wù)開發(fā)經(jīng)理Wilhelm Sanders表示:“在過去,金屬加工企業(yè)在購(gòu)買儀器時(shí),不得不在高分析性能和可接受價(jià)格范圍之間作出選擇?,F(xiàn)在有了新型OE750,他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”

 

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