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某印刷電路板制造商采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 應(yīng)用于刻蝕印刷電路板局部表面去除污染物.
Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 技術(shù)參數(shù)
Φ4 inch X 12片 | 基片尺寸 | Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片 |
均勻性 | ±5% | |
硅片刻蝕率 | 20 nm/min | |
樣品臺 | 直接冷卻,水冷 | |
離子源 | Φ20cm 考夫曼離子源 |
Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-J 搭配伯東公司代理美國考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):
離子源型號 | RFICP 220 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >800 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 20 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 有效針對所需區(qū)域進行蝕刻, 并避免印刷電路板全面性蝕刻產(chǎn)生的導線暴露于空氣中發(fā)生的短路異?，F(xiàn)象.
若您需要進一步的了解詳細產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :
上海伯東 : 羅先生
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第62屆中國高等教育博覽會
展會城市：重慶市展會時間：2024-11-15