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導(dǎo)電膜的測試指標(biāo)和能用到的質(zhì)檢設(shè)備

來源:濟(jì)南泰昌儀器有限公司   2023年02月24日 15:45  

簡介

導(dǎo)電膜是具有導(dǎo)電功能的薄膜。 導(dǎo)電薄膜的荷電載流子在輸運(yùn)過程中受到表面和界面的散射,當(dāng)薄膜的厚度可與電子的自由程相比擬時(shí),在表面和界面的影響將變得顯著,這個(gè)現(xiàn)象稱為薄膜的尺寸效應(yīng)。它等效于載流子的自由程減小,因此與同樣材料的塊體相比,薄膜的電導(dǎo)率較小。

ITO導(dǎo)電膜玻璃

產(chǎn)品描述

氧化銦錫(Indium-Tin Oxide)透明導(dǎo)電膜玻璃,多通過ITO導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)線,在高度凈化的廠房環(huán)境中,利用平面磁控技術(shù),在超薄玻璃上濺射氧化銦錫導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理得到的高技術(shù)產(chǎn)品。 [1]

制作方法

ITO導(dǎo)電膜是指采用磁控濺射的方法(ITO 薄膜的制備方法有蒸發(fā)、濺射、反應(yīng)離子鍍、化學(xué)氣相沉積、熱解噴涂等, 但使用最多的是反應(yīng)磁控濺射法),在透明有機(jī)薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理得到的高技術(shù)產(chǎn)品。

應(yīng)用領(lǐng)域

產(chǎn)品廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域。

產(chǎn)品參數(shù)

線性度(MD):≤1.5%

全光線透過率:≥86%

表面硬度(鉛筆硬度):≥3H

熱穩(wěn)定性:(R-R0)/R: ±20%

熱收縮率:MD≤1.0%,TD≤0.8%

加熱卷曲:≤10mm

低阻抗柔性ITO導(dǎo)電膜(PET-ITO)

適用于柔性電致變色器件、柔性薄膜太陽能電池、柔性EL發(fā)光器件的制備和生產(chǎn)。

薄膜厚度:0.175±10 mm

霧度:<2%

寬度:406/360±2 mm

粘附:100/100

卷曲:≤10 mm

透過率:≥ 80%

表面電阻:90±15 Ω/□

面電阻均勻性:<7%

熱收縮:MD≤1.3,TD≤1.0

熱穩(wěn)定性:

高溫:80oC,120hr ≤1.3

低溫:-40oC,120hr ≤1.3

熱循環(huán):-30oC—80oC ≤1.3

熱/濕度: 60oC, 90% RH,120hr ≤1.3

參數(shù)關(guān)系

ITO導(dǎo)電膜的主要參數(shù)有:表面電阻、表面電阻的均勻性、透光率、熱穩(wěn)定性、加熱收縮率、加熱卷曲等。其中光透過率主要與ITO膜所用的基底材料和ITO膜的表面電阻有關(guān)。在基底材料相同的情況下,ITO膜的表面電阻越小,ITO膜層的厚度越大,光透過率相應(yīng)的會(huì)有一定程度的減小。

透明導(dǎo)電薄膜

透明導(dǎo)電薄膜是一種既能導(dǎo)電又在可見光范圍內(nèi)具有高透明率的一種薄膜,主要有金屬膜系、氧化物膜系、其他化合物膜系、高分子膜系、復(fù)合膜系等。金屬膜系導(dǎo)電性能好,但是透明率差。

發(fā)展現(xiàn)狀

最近幾年來國內(nèi)外的研究者分別在低溫制備的設(shè)備、工藝、薄膜的表面改性、多層膜系的設(shè)計(jì)和制備工藝方面進(jìn)行了深入的研究。例如,Wu Wen-Fa等利用R.F磁控濺射工藝在不加熱的聚碳酸酯(PC)襯底上制備了厚度為250mm,電阻率為6× ~2(Ω·cm),透過率為74%~90%;Park Sung Kyu等利用R.F磁控濺射工藝在低溫聚合物PES上制備了110nmITO,方塊電阻是20O/□,透過率80%,但是表面的粗糙度較大;法國的David等,利用In-Sn合金靶在100℃下沉積在聚合物上的ITO薄膜透過率為85%,電阻率為~0.003Ω·cm,表面粗糙度為15-50,美國的Daeil.KIM用直接金屬離子束沉積(DMIBD)方法在70℃的條件下制備的ITO薄膜最高透過率為85%,電阻率為4×Ω·cm,表面質(zhì)量比較高;此外還有一些研究人員利用脈沖激光沉積(PLD),電子束熱蒸發(fā)和金屬離子輔助濺射等方法在低溫甚至在室溫的條件下進(jìn)行高質(zhì)量塑基的薄膜制備。

國內(nèi)的賈永新在150℃基板條件下制備出了透過率為80%左右ITO薄膜,但沒有見電阻和表面特性的報(bào)道;近年來李育峰等利用微波等離子體輔助方法在120℃的基片上沉積的薄膜透過率大于85%,但方塊電阻大于100O/□,表面特性沒有報(bào)道;馬瑾等在塑料襯底上在80℃-100℃的條件下制備出了透過率大于84%,電阻率~0.001量級(jí)的薄膜。

綜上所述,國內(nèi)在低溫尤其常溫下制備ITO薄膜方面研究還不夠充分、不夠全面;并且研究制備方法也比較單一,與國外有比較大的差距。近年來國外尤其日本和韓國分別在低溫沉積技術(shù)、薄膜生長機(jī)理和薄膜表面改性方面進(jìn)行了深入的研究,在保證不對(duì)薄膜襯底產(chǎn)生破壞的情況下,在低溫甚至室溫的條件下制備出了薄膜電阻率低于5×Ω·cm,透過率大于85%,表面的粗糙度小于2nm的ITO薄膜。


器名稱+型

號(hào)

測項(xiàng)目

術(shù)參數(shù)

111.png


TC-DLS  力試驗(yàn)機(jī)

拉伸、剝離、變形、撕裂 、180 度剝離、90 剝離、剪切、摩擦系數(shù)

測量范圍:0.01 、0.05 、0. 1 0.2 、1 2  (KN) 速度范圍:0.01-500mm/min

率:1/200000

準(zhǔn)確度:+0.5%

空間:400,700,900mm(可定制)

尺寸:520X260X800mm(LXBXH)

112.png


TC-SLY  薄膜撕裂度

耐撕裂性檢

容量:200gf、400gf、800gf1600gf3200gf、6400gf

源壓力:0、6MPa(氣源用戶自備)

接口:  ф4mm 聚氨酯管

寸:460X320X500mm

源:AC220V 50HZ


113.png


TC-WDY

光率霧度

光率 、霧度的測試

測定范圍透光率 0-100%,0-30% (絕對(duì)測量) 30.1-100% (相對(duì)測量) 辨率:0.1%

光源:C 光源 (DC12V 50W 鹵鎢燈+色溫片)

品尺寸:50mmX50mm(薄膜)

校驗(yàn)  ф40X2mm 一塊

品窗尺寸:入窗ф25mm,出窗ф21mm

方式:準(zhǔn)直照明、漫射視野、積分球

收器:硅光電池與視見函數(shù)修正片

尺寸740X270X300mm


114.png


TC-LBY

鏢沖擊試

驗(yàn)機(jī)

試樣破損時(shí)的沖擊質(zhì)量和 

方法:A 法、B (可選)

范圍:A 法:50~2000g B 法:300~2000g 范圍:測試精度:0.1g (0.1J)

試樣裝夾:氣動(dòng)

源壓力:0.6MPa (氣源用戶自備)

源接口: Ф8mm 聚氨酯管

尺寸:>150mm×150mm

115.png


TC-BCY

薄膜擺錘試

驗(yàn)機(jī)

錘沖擊性能測試

擊能量:1J、2J、3J

分辨率:0.001J

沖頭尺寸 Φ25.4 mm 、  Φ 19 mm 、  Φ 12.7 mm  (非標(biāo)可定制) 試樣夾口直 Φ89 mm 、  Φ60 mm

試樣尺寸:100 mm x 100 mm Φ100 mm

壓力:0.6MPa    (氣源用戶自備)

氣源接口: Ф6mm 聚氨酯管

寸:600 mm(L)× 390mm(W)× 600mm(H)



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