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更多>導(dǎo)電膜的測試指標(biāo)和能用到的質(zhì)檢設(shè)備
簡介
導(dǎo)電膜是具有導(dǎo)電功能的薄膜。 導(dǎo)電薄膜的荷電載流子在輸運(yùn)過程中受到表面和界面的散射,當(dāng)薄膜的厚度可與電子的自由程相比擬時(shí),在表面和界面的影響將變得顯著,這個(gè)現(xiàn)象稱為薄膜的尺寸效應(yīng)。它等效于載流子的自由程減小,因此與同樣材料的塊體相比,薄膜的電導(dǎo)率較小。
ITO導(dǎo)電膜玻璃
產(chǎn)品描述
氧化銦錫(Indium-Tin Oxide)透明導(dǎo)電膜玻璃,多通過ITO導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)線,在高度凈化的廠房環(huán)境中,利用平面磁控技術(shù),在超薄玻璃上濺射氧化銦錫導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理得到的高技術(shù)產(chǎn)品。 [1]
制作方法
ITO導(dǎo)電膜是指采用磁控濺射的方法(ITO 薄膜的制備方法有蒸發(fā)、濺射、反應(yīng)離子鍍、化學(xué)氣相沉積、熱解噴涂等, 但使用最多的是反應(yīng)磁控濺射法),在透明有機(jī)薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理得到的高技術(shù)產(chǎn)品。
應(yīng)用領(lǐng)域
產(chǎn)品廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域。
產(chǎn)品參數(shù)
線性度(MD):≤1.5%
全光線透過率:≥86%
表面硬度(鉛筆硬度):≥3H
熱穩(wěn)定性:(R-R0)/R: ±20%
熱收縮率:MD≤1.0%,TD≤0.8%
加熱卷曲:≤10mm
低阻抗柔性ITO導(dǎo)電膜(PET-ITO)
適用于柔性電致變色器件、柔性薄膜太陽能電池、柔性EL發(fā)光器件的制備和生產(chǎn)。
薄膜厚度:0.175±10 mm
霧度:<2%
寬度:406/360±2 mm
粘附:100/100
卷曲:≤10 mm
透過率:≥ 80%
表面電阻:90±15 Ω/□
面電阻均勻性:<7%
熱收縮:MD≤1.3,TD≤1.0
熱穩(wěn)定性:
高溫:80oC,120hr ≤1.3
低溫:-40oC,120hr ≤1.3
熱循環(huán):-30oC—80oC ≤1.3
熱/濕度: 60oC, 90% RH,120hr ≤1.3
參數(shù)關(guān)系
ITO導(dǎo)電膜的主要參數(shù)有:表面電阻、表面電阻的均勻性、透光率、熱穩(wěn)定性、加熱收縮率、加熱卷曲等。其中光透過率主要與ITO膜所用的基底材料和ITO膜的表面電阻有關(guān)。在基底材料相同的情況下,ITO膜的表面電阻越小,ITO膜層的厚度越大,光透過率相應(yīng)的會(huì)有一定程度的減小。
透明導(dǎo)電薄膜
透明導(dǎo)電薄膜是一種既能導(dǎo)電又在可見光范圍內(nèi)具有高透明率的一種薄膜,主要有金屬膜系、氧化物膜系、其他化合物膜系、高分子膜系、復(fù)合膜系等。金屬膜系導(dǎo)電性能好,但是透明率差。
發(fā)展現(xiàn)狀
最近幾年來國內(nèi)外的研究者分別在低溫制備的設(shè)備、工藝、薄膜的表面改性、多層膜系的設(shè)計(jì)和制備工藝方面進(jìn)行了深入的研究。例如,Wu Wen-Fa等利用R.F磁控濺射工藝在不加熱的聚碳酸酯(PC)襯底上制備了厚度為250mm,電阻率為6× ~2(Ω·cm),透過率為74%~90%;Park Sung Kyu等利用R.F磁控濺射工藝在低溫聚合物PES上制備了110nmITO,方塊電阻是20O/□,透過率80%,但是表面的粗糙度較大;法國的David等,利用In-Sn合金靶在100℃下沉積在聚合物上的ITO薄膜透過率為85%,電阻率為~0.003Ω·cm,表面粗糙度為15-50,美國的Daeil.KIM用直接金屬離子束沉積(DMIBD)方法在70℃的條件下制備的ITO薄膜最高透過率為85%,電阻率為4×Ω·cm,表面質(zhì)量比較高;此外還有一些研究人員利用脈沖激光沉積(PLD),電子束熱蒸發(fā)和金屬離子輔助濺射等方法在低溫甚至在室溫的條件下進(jìn)行高質(zhì)量塑基的薄膜制備。
國內(nèi)的賈永新在150℃基板條件下制備出了透過率為80%左右ITO薄膜,但沒有見電阻和表面特性的報(bào)道;近年來李育峰等利用微波等離子體輔助方法在120℃的基片上沉積的薄膜透過率大于85%,但方塊電阻大于100O/□,表面特性沒有報(bào)道;馬瑾等在塑料襯底上在80℃-100℃的條件下制備出了透過率大于84%,電阻率~0.001量級(jí)的薄膜。
綜上所述,國內(nèi)在低溫尤其常溫下制備ITO薄膜方面研究還不夠充分、不夠全面;并且研究制備方法也比較單一,與國外有比較大的差距。近年來國外尤其日本和韓國分別在低溫沉積技術(shù)、薄膜生長機(jī)理和薄膜表面改性方面進(jìn)行了深入的研究,在保證不對(duì)薄膜襯底產(chǎn)生破壞的情況下,在低溫甚至室溫的條件下制備出了薄膜電阻率低于5×Ω·cm,透過率大于85%,表面的粗糙度小于2nm的ITO薄膜。
圖片 | 儀器名稱+型 號(hào) |
檢測項(xiàng)目 |
技術(shù)參數(shù) |
|
TC-DLS 拉力試驗(yàn)機(jī) |
拉伸、剝離、變形、撕裂 熱封、180 度剝離、90 度 剝離、剪切、摩擦系數(shù)等 |
測量范圍:0.01 、0.05 、0. 1 、0.2 、1 、2 (KN) 速度范圍:0.01-500mm/min 分辨率:1/200000 準(zhǔn)確度:+0.5% 拉伸空間:400,700,900mm(可定制) 外形尺寸:520X260X800mm(LXBXH) |
|
TC-SLY 薄膜撕裂度 |
耐撕裂性檢測 |
擺體容量:200gf、400gf、800gf、1600gf、3200gf、6400gf 氣源壓力:0、6MPa(氣源用戶自備) 氣源接口: ф4mm 聚氨酯管 尺寸:460X320X500mm 電源:AC220V 50HZ |
|
TC-WDY 透光率霧度 儀 |
透光率 、霧度的測試 | 測定范圍:透光率 0-100%,0-30% (絕對(duì)測量) 30.1-100% (相對(duì)測量) 分辨率:0.1% 光源:C 光源 (DC12V 50W 鹵鎢燈+色溫片) 樣品尺寸:50mmX50mm(薄膜) 校驗(yàn)樣品 : ф40X2mm 一塊 樣品窗尺寸:入窗ф25mm,出窗ф21mm 接受方式:準(zhǔn)直照明、漫射視野、積分球 接收器:硅光電池與視見函數(shù)修正片 外形尺寸:740X270X300mm |
|
TC-LBY 落鏢沖擊試 驗(yàn)機(jī) | 試樣破損時(shí)的沖擊質(zhì)量和 能量 | 測量方法:A 法、B 法 (可選) 測試范圍:A 法:50~2000g B 法:300~2000g 測試范圍:測試精度:0.1g (0.1J) 試樣裝夾:氣動(dòng) 氣源壓力:0.6MPa (氣源用戶自備) 氣源接口: Ф8mm 聚氨酯管 試樣尺寸:>150mm×150mm |
|
TC-BCY 薄膜擺錘試 驗(yàn)機(jī) |
擺錘沖擊性能測試 | 沖擊能量:1J、2J、3J 分辨率:0.001J 沖頭尺寸: Φ25.4 mm 、 Φ 19 mm 、 Φ 12.7 mm (非標(biāo)可定制) 試樣夾口直徑: Φ89 mm 、 Φ60 mm 試樣尺寸:100 mm x 100 mm 或Φ100 mm 氣源壓力:0.6MPa (氣源用戶自備) 氣源接口: Ф6mm 聚氨酯管 尺寸:600 mm(L)× 390mm(W)× 600mm(H) |
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展會(huì)城市:重慶市展會(huì)時(shí)間:2024-11-15