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KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍設(shè)備

來源：伯東企業(yè)（上海）有限公司 2023年07月05日 14:14

KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍設(shè)備 E-beam Evaporation System
特殊的系統(tǒng)設(shè)計(jì)電子束沉積是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 上海伯東某客戶電子束蒸鍍系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一大坩堝也可以有多個(gè)坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu), 在基板乘載上對應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì). 為了獲得大的制程靈活性, 可以結(jié)合考夫曼離子源進(jìn)行離子輔助沉積或者預(yù)清潔等功能.
KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍設(shè)備

----------- 電子束蒸鍍設(shè)備 E-beam Evaporation System ----------

上海伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

型號	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯東美國 KRI 提供霍爾離子源, 考夫曼離子源和射頻離子源, 歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)利. 廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生

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