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在沒有真空的情況下，可再生能源的發(fā)展是不可能的。以光伏發(fā)電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉化方式，通過太陽能電池將太陽輻射能轉化為電子流，進而生成電能。
太陽能電池技術有許多種類，其中一種主要的技術是基于薄膜沉積。這種方法的主要優(yōu)點在于，它在制造太陽能電池時消耗的材料較少。除了碲化鎘（CdTe）等材料外，銅銦鎵硒化物（CIGS）也常被用于吸收層。這些層可以被沉積在玻璃等非柔性基板上，也可以沉積在金屬帶材或箔片等柔性基板上，還可以沉積在柔性薄玻璃上。然后，這些基板需要被放入一個大型真空腔室中。在這個真空腔室中，會進行多種物理氣相沉積（PVD）工藝，例如濺射或蒸發(fā)，以生成多層太陽能電池。根據(jù)不同的工藝，為了沉積這些層，需要 10-3 至 10-6 毫巴范圍內的真空。由于表面積較大，高抽速是不可少的，同時真空腔室需要保持潔凈無碳，以確保高質量的涂層。
薄膜沉積真空系統(tǒng)應用要求：
1. 維護間隔長, 正常運行時間延長
2. 無碳真空
3. 高抽速, 快速抽空
上海伯東推薦德國 Pfeiffer 真空泵典型配置
型號 | 大抽速渦輪分子泵 | 全磁浮分子泵 | 羅茨泵組 |
圖片 |
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進氣口 | DN 250 ISO-F | DN 250 ISO-F | DN 160 ISO-F |
氮氣抽速 | 1900 l/s | 2350 l/s | 2348 m3/h |
極限真空 | 1X10-7 mbar | < 1X10-8 mbar | 1X10-2 mbar |
濺射或蒸發(fā)工藝要求
1. 滿足多層膜的制備
2. 維護間隔長
3. 膜層致密, 不易脫落
通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好, 膜層不易脫落. 其中 RF 射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 參數(shù):
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 22 cm Φ | 38 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
薄膜沉積應用于眾多零部件產品的生產, 例如眼鏡, 手機, 屏幕顯示器等. 一般通過物理氣相沉積 PVD 或化學氣相沉積 CVD 實現(xiàn). 薄膜直接施加到零部件表面上, 總厚度小于 10 µm. 薄膜沉積需要在真空環(huán)境下進行. 上海伯東提供德國 Pfeiffer 真空產品和美國 KRi 考夫曼離子源助力薄膜沉積工藝發(fā)展.
若您需要進一步的了解薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統(tǒng), 請參考以下聯(lián)絡方式
上海伯東: 羅小姐
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展會城市：重慶市展會時間：2024-11-15