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帶通濾光片也叫干涉濾光片, 主要起到過(guò)濾不想要的雜光, 只讓想要的光通過(guò)的作用. 385nm 紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款 UV 紫外波段的濾光片, 廣泛應(yīng)用于熒光檢測(cè), 多波段濾光片. 它具有高透過(guò)率, 其深截止可保證探測(cè)器接收不到其它波長(zhǎng)的光, 因此可保證圖像的高亮度和更大的信噪比. 385nm 紫外帶通濾光片采用多層硬膜經(jīng)離子輔助沉積納米材料高真空蒸發(fā)而成, 膜層致密性好, 成像清晰度高, 厚度薄. 為了得到更優(yōu)質(zhì)效果, 經(jīng)過(guò)推薦上海伯東某客戶采用光學(xué)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片. 驗(yàn)證過(guò)程及結(jié)果如下：

應(yīng)用方向：美國(guó) KRi 射頻離子源輔助沉積鍍制 385nm 紫外帶通濾光片

離子源類型：美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 380

鍍膜設(shè)備：1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備

應(yīng)用領(lǐng)域：UV 臭氧燈、UV 洗凈燈、UV 光分解燈、UV 消毒燈、UV 固化燈、UV-LED 滅菌、UV 紫外光合成燈、熒光分析儀、熒光顯微鏡、生物芯片、酶標(biāo)儀、工業(yè)相機(jī)、分光光度計(jì)、醫(yī)用理化分析設(shè)備、刑偵檢測(cè)、光學(xué)儀器、科學(xué)攝影、生命科學(xué)檢測(cè)儀器等

光學(xué)鍍膜機(jī)加裝美國(guó)進(jìn)口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片, 可以獲得很小的 Ta2O5 與 SiO2 材料在紫外的吸收率, 沉積過(guò)程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設(shè)計(jì), 能達(dá)到行業(yè)水準(zhǔn).

上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
 

上海伯東是美國(guó)Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 德國(guó) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 比利時(shí)進(jìn)口 Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌的代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!

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上海伯東: 羅小姐