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HUD 已經(jīng)成為一種常見(jiàn)的汽車配置與功能, 通過(guò)它來(lái)直觀顯示速度、發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息, 減少因低頭查看儀表盤(pán)而造成的分心, 提升駕駛安全. 目前量產(chǎn)的車用抬頭顯示 HUD 正在從風(fēng)擋型 W-HUD 逐漸向增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)型的 AR-HUD 發(fā)展:從單純的信息展示屏幕, 變成了具有在實(shí)際路況位置產(chǎn)生警示符號(hào)的增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR) 效果.
W-HUD/AR-HUD 一直都依賴光學(xué)凹面鏡成像原理實(shí)現(xiàn)距離與視覺(jué)尺寸的放大, AR-HUD大的技術(shù)挑戰(zhàn)在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸變差暈眩問(wèn)題與太陽(yáng)光倒灌燒毀光機(jī)的問(wèn)題. 要使用越小的體積產(chǎn)生同樣的長(zhǎng)虛像距離 (VID) 距離, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 陽(yáng)光倒灌與暈畸變差眩就越嚴(yán)重. 防陽(yáng)光倒灌濾光片可通過(guò) RGB 窄帶濾光片來(lái)實(shí)現(xiàn). 濾光片可實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光波段的高透過(guò)率, 同時(shí)截止近紅外和紫外波段, 獲得高的亮度測(cè)量靈敏度和動(dòng)態(tài)范圍.
KRi 離子源應(yīng)用于車載AR-HUD 鍍膜
上海伯東某客戶使用自主研發(fā)的鍍膜設(shè)備, 配備美國(guó) KRI 射頻離子源輔助鍍膜通過(guò)測(cè)驗(yàn), 得到具有高透過(guò)率、高匹配精度、膜層致密度和牢固度優(yōu)質(zhì), 高低溫變化波長(zhǎng)不漂移, 惡劣環(huán)境下耐久性良好的 RGB 窄帶濾光片, 上海伯東為車載AR-HUD TFT 防陽(yáng)光倒灌提供了優(yōu)質(zhì)鍍膜解決方案.
上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.
射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽(yáng)極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 22 cm Φ | 38 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
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2024第八屆河北國(guó)際工業(yè)博覽會(huì)
展會(huì)城市:石家莊市展會(huì)時(shí)間:2024-10-15