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OPTELICS HYBRID+ 簡介：

日本Lasertec公司推出了Optelics混合共焦顯微鏡,將激光和白光源組合在一體,用于多功能高性能共聚顯微鏡.兩組共焦光學器件與附加器件相結合,包括干涉儀,微分干涉對比觀察和光譜反射膜厚度測量儀。

             集6項功能于一體

應用：各種材料的觀察和形狀測量可以進行毫米級到納米級的非接觸、

非破壞性形狀測量和觀察。它可以處理廣泛的工業(yè)領域中的各種樣品。

工業(yè)領域：

半導體材料（Si、Sic、抗蝕劑）、器件、電子元件

MEMS、微制造零件、涂層材料

薄膜、有機/無機材料、光學元件、薄膜

生物領域：

微流道

導管、劃痕等異物

可用于從研發(fā)領域接近量產(chǎn)的領域。

功能介紹：

 白光共聚焦功能

                                                寬視野觀察提高效率

                              采用白光光源可以獲取高清全彩圖像，有助于觀察。

激光共聚焦功

高倍率和高分辨觀察

配備波長405nm的半導體激光器、無需預處理即可清晰采集納米級超精細結構，分辨率堪比電子顯微鏡。

                                                               鈮酸鋰 倍率：11000倍    半導體部件 倍率：3700倍

                                                      
微分干涉功能

納米級凹凸觀察

    共聚焦和微分干涉對比（DIC）的組合提供了樣品細微缺陷的清晰化觀察，可不受背面影響的情況下觀察透明樣品的正面

                                     共聚焦觀察       共聚焦微分干涉觀察

垂直掃描白光干涉功能

毫米視野下的納米級臺階高度測量

    高度分布數(shù)據(jù)是通過獲取白光和雙光干涉物鏡在光軸方向掃描時產(chǎn)生的干涉條紋強度峰值處的z-scale值來計算的。該方法適用于寬視場測量，因為理論上在任何放大倍數(shù)的物鏡下都具有相同的高度測量分辨率。

               1.5mm視野下44nm的測量                            數(shù)um高度下10nm-100nm高度測量

相移干涉測量功能

埃米級臺階高度測量

    由于單波長光和兩光束干涉物鏡產(chǎn)生的干涉條紋是基于樣品表面的光程差分布，因此通過相位信息分析使用四個
相對于光軸不同位置的干涉條紋圖像來計算高度分布數(shù)據(jù)。

反射光膜厚測量功能

納米級透明膜厚測量

使用波長選擇功能測量6個波長反射率，使用光學模型擬合計算膜厚。可以測量幾納米到1微米的單層/多層膜厚。由于測量區(qū)域是根據(jù)共焦觀察圖像定的，因此可以計算亞微米微小區(qū)域到幾毫米整個視場的平均膜厚。此外，由于可以測量每個像素的膜厚，因此可以測量膜厚分布。

規(guī)格參數(shù)：