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實(shí)驗(yàn)電爐PECVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
實(shí)驗(yàn)電爐PECVD系統(tǒng)主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
PECVD開(kāi)啟式管式爐系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PECVD開(kāi)啟式管式爐系統(tǒng)在真空壓力下，加在電感線(xiàn)圈的射頻電場(chǎng)，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場(chǎng)的作用下獲得充足的能量，其...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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