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簡(jiǎn)介：NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無(wú)損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到化的清洗效果，兆聲能...

簡(jiǎn)介：PlasmaCleaner等離子清洗機(jī)NPC-4000（M）等離子清洗機(jī)概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表...

簡(jiǎn)介：紫外臭氧清洗工作原理：清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧...

簡(jiǎn)介：BenchtopPlasmaCleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的主導(dǎo)者，我們專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)提供性價(jià)比高的小型等離...

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