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簡介：上海伯東代理超高真空磁控濺射鍍膜機.真空度zui高5E-10Torr,特比適合生長高質量的薄膜或超薄膜,金屬與絕緣材料.使用德國Pfeiffer分子泵和美國KRI離子源.

簡介：上海伯東代理磁控濺鍍設備FPD-PVD針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PVD設備,擁有4個單獨的濺鍍腔體,讓客戶能任意搭配沉積的材料,同時保有彈性和具有選擇性的系統(tǒng).

簡介：上海伯東代理E-Beam電子束蒸發(fā)鍍膜機(電子蒸鍍),zui大真空度可達5E-10torr,提供客制化服務.

簡介：上海伯東代理脈沖激光沉積設備PLD-18L,它可以與濺射槍,積液池,高壓流變,激光束控制相結合,可以放置8×1英寸的樣品或4×2英寸的樣品,在真空狀態(tài)下通過loadlockchamber進行更換,...

簡介：上海伯東代理分子束外延設備MBE-8可以成長三寸以下的樣品,樣品溫度可以加到900攝氏度,如果是兩寸以下的樣品可以到1100攝氏度.可以裝置8個束源爐,zui大容量40cc.配備晶振,束流監(jiān)控器,...

簡介：分子束外延設備MBE-10配備晶振,束流監(jiān)控器.高能電子槍以及監(jiān)控軟件.可以裝置固體源,氣體源/ALD閥,等離子增強型束源爐(plasmacell)及我們特制的電子回旋共振束源爐(ECRplasm...

簡介：上海伯東代理超高真空離子刻蝕機IBE,我們數(shù)十年來一直致力于超高壓沉積技術,幫客戶定制設備完成特殊應用,在客戶預算內提供設備和*的設計！

簡介：原子層沉積ALD是基于順序使用氣相化學過程的重要技術之一,它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積CVD.多數(shù)ALD反應使用兩種或更多種化學物質（稱為前驅物,也稱為“反應物??”）.這些前驅物以一種...

簡介：上海伯東針對薄膜封裝推出電漿輔助式化學氣相沉積,原子層沉積和聚對二甲苯沉積等三種設備,且使用低溫的沉積技術,分別在OLED上堆疊多層薄膜,廣泛應用于有機發(fā)光二極體,有機光伏打電池和材料科學研究.

簡介：上海伯東代理的金屬熱蒸鍍設備加裝美國KRI離子源,可以精準的控制蒸發(fā)速度,為客戶提供*的復合式薄膜,且薄膜的厚度和均勻度小于+/-3％,廣泛應用于納米薄膜,太陽能電池等行業(yè)以及金屬材料的研究等.