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高性能聚焦離子束系統(tǒng) MI4050
面議0簡(jiǎn)介：MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統(tǒng)：新型電子光學(xué)系統(tǒng)，可達(dá)到高水準(zhǔn)的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率，使得高品質(zhì)TEM樣品制備成為可能可用于截面加工...
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FIB-SEM三束系統(tǒng) NX2000
面議0簡(jiǎn)介：追求的TEM樣品制備工具在設(shè)備及高性能納米材料的評(píng)價(jià)和分析領(lǐng)域，F(xiàn)IB-SEM已成為的工具。近來，目標(biāo)觀察物更趨微細(xì)化；更薄，更低損傷樣品的制備需求更進(jìn)一步凸顯。日立高新公司，整合了高性能FIB技...
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高精度實(shí)時(shí)三維分析FIB-SEM三束系統(tǒng) NX9000
面議0簡(jiǎn)介：追求理想的三維結(jié)構(gòu)分析通過自動(dòng)重復(fù)使用FIB制備截面和進(jìn)行SEM觀察，采集一系列連續(xù)截面圖像，并重構(gòu)特定微區(qū)的三維結(jié)構(gòu)。采用的鏡筒布局，從材料、設(shè)備到生物組織——在寬廣的領(lǐng)域范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)機(jī)型難以...
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高性能FIB-SEM系統(tǒng) Ethos NX5000
面議0簡(jiǎn)介：1.搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒HR模式下可實(shí)現(xiàn)高分辨觀察（半內(nèi)透鏡）FF模式下可實(shí)現(xiàn)高精度加工終點(diǎn)檢測(cè)（TimesharingMode）2.高通量加工可通過高電流密度FIB實(shí)現(xiàn)快速加工（束...
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球差校正掃描透射電子顯微鏡 HD-2700
面議0簡(jiǎn)介：高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像HAADF-STEM圖像0.136nm，F(xiàn)FT圖像0.105nm(高分辨率鏡頭*)HAADF-STEM圖像0.144nm(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭)明場(chǎng)掃描透射電子顯微鏡圖像0.20...
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透射電子顯微鏡HT7800系列
面議0簡(jiǎn)介：以創(chuàng)新的操作性，滿足廣泛領(lǐng)域的需求。新一代TEM"RuliTEM"誕生。"RuliTEM"120kV透射電子顯微鏡系列，包含配備高襯度透鏡，實(shí)現(xiàn)大視野、高對(duì)比度觀察的HT7800和配備同級(jí)別分辨率...
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日立磁控濺射器MC1000
面議0簡(jiǎn)介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...
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日立離子研磨裝置IM4000
面議0簡(jiǎn)介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...
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離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000
面議0簡(jiǎn)介：日立ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)...
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日立5100N通用多功能原子力顯微鏡
面議0簡(jiǎn)介：AFM5100N除了激光檢測(cè)方式之外，全新的「自檢測(cè)懸臂」，在保證高分辨表面形貌觀察的同時(shí)，大大簡(jiǎn)化了AFM懸臂操作?！ぬ攸c(diǎn)1.簡(jiǎn)便的懸臂安裝通常的懸臂是非常渺小而且很難操作，內(nèi)部裝有傳感器的「自...
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